应用领域：冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。
检测基体：铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。
主要技术参数：光学系统：帕型）-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；
波长范围：170-580nm
焦距：400mm
探测器：高性能CCD阵列
光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）
放电频率：100-1000Hz
放电电流：最大400A
工作电源：220VAC 50/60Hz
仪器尺寸：720*860*500
仪器重量：约100kg（不含真空系统）
检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右
电极：钨材喷射电极
分析间隙：真空软件自动控制、监测
技术特点：
1、高性能光学系统
2、自动光路校准
3、单板式透镜设计
4、真空室一体化
5、真空防返油技术
6、开放式激发台
7、喷射电极技术
8、集成气路模块
9、全数字化激发光源
10、高速数据采集
11、以太数据传输
12、预制工作曲线
13、分析速度快捷
14、多基体分析
15、软件多国语言
分析特征:
分析基体 Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光学结构 帕邢-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围 130-800nm（可分析N元素）
焦距 400mm
光栅刻线 3000条/mm
探测器 高性能CCD阵列,每块CCD 3,648 像素，
CCD像素分辨率 6pm
电极 钨材喷射电极
分析间隙 样品台分析间隙：4mm
光源类型 全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）
激发频率 100-1000Hz
最大放电电流 400A
真空系统 真空软件自动控制、监测